Silicon Dioxide slurry Ultrasonic Long Nozzle Deep BCT Spraying

 

 

 

Það eru ýmsar stútstillingar fyrir djúpa BCT úða á kísil slurry ultrasonic langan stútur, sem hægt er að aðlaga í samræmi við þvermál og lengd BCT eða sprautuhólksins. Algengt forrit er að úða kísilhúð til að flýta fyrir storknun og kísilgrindinu er úðað á pípuvegginn í gegnum úthljóðstút til að mynda samræmda þunnt filmu af kísilögnum.

Kísildíoxíð slurry ultrasonic langur stútur djúp BCT úðun getur brotið niður hvaða kísildíoxíð þyrpingar sem er með hátíðni titringi úthljóðsbylgna á stútnum, sem tryggir að hægt sé að dreifa húðinni á pípuveggnum jafnt. Á sama tíma, í samræmi við kröfur húðunarsvæðisins, er hægt að framkvæma staðbundna úða til að stjórna húðunarstöðu nákvæmari.

 

 

 

1. Seigja og fast efni: Venjulega er seigja minna en eða jafnt og 30cps, og sviflausnin krefst fast efnis sem er ekki meira en 20-30%
2. Vökvabirgðabúnaður: nákvæmni innspýtingsdæla + líffræðilega einkunn sýnatökutæki, nákvæmni vökvagjafar 0,1uL/mín.
3. Þurrfilmuþykkt: 20nm-100um (tengt undirlagi lausnarinnar)
4. Inntaksspenna: 220V ± 10%, 50-60Hz
5. Umbreytingarhlutfall lausnar: Stærra en eða jafnt og 95%, nýtingarhlutfall er margfalt hærra en hefðbundið tveggja vökvaþrýstútta
6. Atómað kornastærð: Meðalgildið er 15-45 μm, aðallega eftir tíðni stútsins. Því hærri sem tíðnin er, því minni eru agnirnar
7. Stúttíðni: hægt að útbúa með mörgum stútkerfum á bilinu 30-200KHz

 

 

                          

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

maq per Qat: kísildíoxíð slurry ultrasonic langur stútur djúp bct úða, Kína kísildíoxíð slurry ultrasonic langur stútur djúp bct úða framleiðendur, birgjar, verksmiðju